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KAIST팀, 이황화몰리브덴 결정핵 위치 정밀 제어 성공

연구반도체·디스플레이 소재뉴시스 원문 기준원문 발행 2026.10.08
반도체·디스플레이 소재 분야 사진 — 이 글의 내용을 찍은 사진이 아닙니다 · 클린룸에서 웨이퍼를 다루는 연구원 · 사진 U.S. Department of Energy (퍼블릭 도메인)

KAIST, UNIST, 한양대, 티디에스이노베이션 공동연구팀이 2차원 반도체 소재인 이황화몰리브덴의 결정이 생기는 시작 위치까지 정밀하게 제어하는 기술을 개발해 네이처에 발표했다. 성장 영역을 둘러싼 산화물 장벽에서 나오는 산소 성분이 가장자리에서 결정핵 생성을 강하게 억제하는 점을 이용해 영역 중앙에서 하나의 결정핵만 생기도록 유도했다. 400개 실험 패턴 중 99% 이상에서 경계 없는 단결정 성장에 성공했으며, 이는 연산과 메모리를 수직으로 쌓는 차세대 적층형 AI 반도체의 기반 기술로 활용될 것으로 기대된다.

핵심

  1. 산화물 장벽의 산소 성분을 이용해 결정핵 생성 위치를 영역 중앙으로 유도
  2. 400개 실험 패턴 중 99% 이상에서 경계 없는 단결정 형성에 성공
  3. 기존 선택성장 기술은 영역만 정할 뿐 결정핵 위치까지는 제어하지 못했음
  4. 연산-메모리 수직 집적형 차세대 AI 반도체 기반 기술로 기대

원문이 밝힌 한계

  • 원천기술 단계로, 실제 반도체 제조 공정 적용과 적층형 소자 구현은 향후 과제로 남아있다
원문 · 뉴시스 — "원자 경계선 없앴다"…韓 연구진, 초고성능 AI 반도체 길 열었다
원문을 Claude 가 요약·정리하고 코드 검사(원문에 없는 수치·화학식, 가격, 상대 시점, 투자 권유, 과장 표현 차단)를 통과한 글입니다. 연구의 주장과 평가는 원 논문·발표처의 것입니다. 오류는 contact@qpx.kr.
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한국전력소자산업협회 K-포럼에서 ETRI 배성범 실장은 AI 데이터센터의 전력 사용량 증가로 SiC·GaN 등 화합물 전력반도체의 역할이 커지고 있다고 밝혔다. 엔비디아가 주도하는 800V DC 배전 구조처럼 고전압화가 진행되면서 기존 실리콘 소자로는 손실·발열 억제에 한계가 있기 때문이다. SiC는 외부 전력망의 고전압·고출력 변환에, GaN은 서버 내부 저전압 고속 스위칭에 강점이 있어 용도가 구분된다. 다만 소재 간 열팽창 계수 차이로 인한 웨이퍼 휨·균열, 기판 열전도 문제가 상용화 과제로 남아 있어 새로운 기판 소재와 수직형 소자 구조 연구가 진행 중이다.

반도체·디스플레이 소재 · 디일렉
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ZDNet Korea · 2026.10.07
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디일렉 · 2026.10.01
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디일렉 · 2026.10.01
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